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電漿化學氣相沈積製程分析技術與設備課程-封面
  • 活動時間

    2015-04-1009:30:00至16:30:00

  • 活動地點

    台北世貿一館3F (台北市信義路五段5號3樓) - 信義路五段5號3樓

  • 費用資訊

    3,000元/人(費用皆含稅及講義,請勿另扣除郵資及匯兌手續費) 4/2前完成報名享早鳥優惠價2,500元(非會員團報4人優惠2,000元/人) TEEIA會員廠商優惠價2,000元。、學校老師及在學學生享優惠價1,500元/人。

  • 活動場次

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  • 主辦單位

    TEEIA社團法人台灣電子設備協會

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  • 聯絡人

    蕭小姐

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    (02)-27293933(分機:24) 蕭小姐

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日期 時間類型 地點 費用 通知
2015-04-10 單日 09:30:00~16:30:00 台北世貿一館3F (台北市信義路五段5號3樓)

詳細介紹Intro

電漿化學氣相沈積製程分析技術與設備課程(4/10)

電漿化學氣相沈積製程廣泛應用於光電與半導體IC產業中,本課程中將介紹其應用、原理與相關設備。本課程邀請最具經驗之業界講師分享電漿化學氣相沈積製程分析技術與設備的最新現況,深入淺出地協助學員建立相關背景知識,包含電漿化學與物理氣相沈積機制的差異性,搭配製程分析技術,對應的製程參數調整現象。最後將介紹採用電漿化學氣相沈積製程研發的前瞻薄膜技術( PECVD) ,以及量產型設備。
同時提供產界專家與貴賓家進行相關議題討論與交流,期望提升台灣廠商在市場的競爭力,謹此敬邀各界先進共同參與。

 

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主辦簡介

台灣光電與半導體設備產業協會成立於2005年12月14日,並於2010年6月完成更名為台灣電子設備協會,為一非營利目的之產業同業組織;本會宗旨為整合國內產、官、學、研各界資源,輔導國內光電與半導體設備相關廠商,建立產業關鍵技術能量及提高業者研發能力,使台灣相關設備產業在新世紀的國際競爭市場中佔有一席地位。

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