電漿化學氣相沈積製程分析技術與設備課程（4/10）

電漿化學氣相沈積製程廣泛應用於光電與半導體IC產業中，本課程中將介紹其應用、原理與相關設備。本課程邀請最具經驗之業界講師分享電漿化學氣相沈積製程分析技術與設備的最新現況，深入淺出地協助學員建立相關背景知識，包含電漿化學與物理氣相沈積機制的差異性，搭配製程分析技術，對應的製程參數調整現象。最後將介紹採用電漿化學氣相沈積製程研發的前瞻薄膜技術（ PECVD） ，以及量產型設備。
同時提供產界專家與貴賓家進行相關議題討論與交流，期望提升台灣廠商在市場的競爭力，謹此敬邀各界先進共同參與。